石英坩堝具有高的純度、耐溫性強(qiáng)、尺寸大精度高、保溫性好、節(jié)約能源、質(zhì)量穩(wěn)定等優(yōu)點(diǎn)，應(yīng)用越來(lái)越廣泛。石英坩堝的檢測(cè)工作是一個(gè)十分重要的環(huán)節(jié)，而且石英坩堝的檢測(cè)朝向現(xiàn)場(chǎng)檢測(cè)方向發(fā)展
 　　多晶硅鑄錠用石英坩堝的生產(chǎn)過(guò)程對(duì)燒制環(huán)節(jié)提出了嚴(yán)格的工藝要求，特別是用于準(zhǔn)單晶鑄錠用的熔融石英坩堝。
 　　多晶硅鑄錠用石英坩堝的形態(tài)上的發(fā)展趨勢(shì)是：大件、壁薄、涼卻過(guò)程初始需要快速?zèng)鰠s。準(zhǔn)單晶鑄錠用的熔融石英坩堝還對(duì)產(chǎn)品提出了更高的綜合性能，如更好的強(qiáng)度與熱傳導(dǎo)性、更低的顯氣孔率與熱膨脹系數(shù)、更均勻的密度分布等等。
 　　對(duì)此，業(yè)界窯爐新推出了"復(fù)合脈沖燃燒控制技術(shù)"和"快速?zèng)鰠s系統(tǒng)"，并將其應(yīng)用至石英方坩堝窯爐設(shè)備中，能使大件壁薄的石英方坩堝制品在升溫與保溫過(guò)程獲得更均勻的熱場(chǎng)和快速的涼卻速度，大大提高石英方坩堝的燒成合格率。
 　　石英坩堝可在1450度以下使用，分透明和不透明兩種。用電弧法制的半透明石英坩堝是拉制大直徑單晶硅，發(fā)展大規(guī)模集成電路必不可少的基礎(chǔ)材料。